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森朗仪器
氢氟酸合成装置参数和性能
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氢氟酸合成装置系统操作温度范围为-50~XXX℃,操作压力 -0.1~XMPa,设计温度范围-60~XXX℃,设计压力XMPa;体系分为溶解系统、结晶系统、溶剂回收三部分。该体系应能实现连续操作和间断操作两种工况。连续操作时能稳定进料、出料。升温过程,可进行多段程序升温控制,控温精度0.1℃。溶解系统设计反应釜,容积设计为XXmL,操作温度为-20~XX℃,操作压力为-0.1~XMPa,材质为31...

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  • 氢氟酸合成装置参数和性能-产品详情

氢氟酸合成装置系统操作温度范围为-50~XXX℃,操作压力 -0.1~XMPa,设计温度范围-60~XXX℃,设计压力≥XMPa;体系分为溶解系统、结晶系统、溶剂回收三部分。该体系应能实现连续操作和间断操作两种工况。连续操作时能稳定进料、出料。升温过程,可进行多段程序升温控制,控温精度±0.1℃。溶解系统设计反应釜,容积设计为XXmL,操作温度为-20~XX℃,操作压力为-0.1~XMPa,材质为316L不锈钢,反应器开口至少X个,分别为搅拌口,固体进料口(Xmm以上),液体进料口(Xmm),浊度仪探头接口,进气口,排气口,测压口,测温口。反应器底部设计有下出料口与过滤器1相连,过滤器设计工况与溶解釜相同,容积为XXml,过滤精度X微米,方便拆卸,滤芯可拆卸替换,过滤死体积小,配堵塞卸料口和气体反吹清洗口。固体加料口加工应方便固体加料罐快速安装和拆卸。

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